半導體內部是由長(cháng)達數萬(wàn)米的金屬配線(xiàn)而組成，而濺射靶材則是用于制作這些配線(xiàn)的關(guān)鍵消耗材料。如蘋(píng)果A10處理器，指甲蓋大小的芯片上密布著(zhù)上萬(wàn)米金屬導線(xiàn)，這些密布的電路必須要對高純度的金屬靶材通過(guò)濺射的方式形成。濺射靶材是半導體晶圓制造環(huán)節核心的高難度材料，芯片對濺射靶材的要求非常之高，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個(gè)9，4N表示有4個(gè)9即99.99%，哪個(gè)純度更高，一看就明白了。在提純領(lǐng)域，小數點(diǎn)后面每多一個(gè)9，難度是呈指數級別的增加，技術(shù)門(mén)檻也就更高。隨著(zhù)芯片的使用范圍越來(lái)越廣泛，芯片市場(chǎng)需求數量增長(cháng)，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業(yè)界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會(huì )有增長(cháng)。且目前從技術(shù)上及經(jīng)濟規模上還未找到能夠替代這四種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風(fēng)險。     尤特新材料的高純旋轉銅管靶和旋轉鋁管靶成功在國內數家TFT G8.5 線(xiàn)上量產(chǎn)使用，成功實(shí)現國產(chǎn)化。尤特新材料生產(chǎn)靶材產(chǎn)品主要應用在：建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)、表面修復工業(yè)。     主要產(chǎn)品有：旋轉銀靶、旋轉鋁靶、旋轉鋅鋁靶、旋轉鋅錫靶、旋轉鈮靶、旋轉銅靶、旋轉鈦鋁管靶、旋轉硅鋁靶、旋轉氧化鈮靶、旋轉氧化鈦靶、旋轉硅靶、旋轉鉻靶、旋轉鋯靶、平面銀靶、平面鉻靶、平面硅靶、平面鈦靶、平面鈦鋁靶、平面鎳鉻靶、平面鉬鈮靶、平面鋁合金靶等。并為客戶(hù)提供量身定做及靶材綁定的服務(wù)。       目前全球高端靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應商在日本，韓國。中國市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長(cháng)之中未。來(lái)靶材產(chǎn)品會(huì )廣泛應用于計算機硬盤(pán)、半導體、TFT平面顯示、手機、低輻射玻璃等行業(yè)，我們立志為靶材的國產(chǎn)化作出了重要貢獻，任重而道遠。