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電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍膜的性能分析研究

2017/5/20 20:19:46 來(lái)源:

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②合金膜的成分控制。隨著圓形的微細(xì)化,為確??煽啃圆⑻岣叱善仿什捎肁l-Si、Al-Cu、Al-Si-Cu等Al合金膜代替純金屬Al膜。如果采用電子束蒸發(fā)來(lái)制取合金膜,由于組分蒸氣壓不同會(huì)引起分解,很難控制合金膜使其達(dá)到所要求的成分。

③裝卡基片復(fù)雜,難于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。在高度復(fù)雜的元器件制造工藝中,為提高可靠性和重復(fù)性,應(yīng)盡量減少人工操作,提高自動(dòng)化操作水閏。采用電子束蒸發(fā),行星回旋式支架上只能一個(gè)一個(gè)地裝卡Si片,而且只能采取單批式蒸鍍。因此,難于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化操作。

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