光弛Gener-2350 光學(xué)真空鍍膜機 二手日本光弛鍍膜機工廠(chǎng)低價(jià)轉讓2臺進(jìn)口原裝GENER-2350真空鍍膜機  真空室 Ф2350mm×H 1400mm基板架 Ф2200 mm，5?式基板架轉速 20rpm晶振式膜厚計 6點(diǎn)式?晶傳感器蒸發(fā)源 電?槍1臺，熱阻蒸離?源 RF離?源達到壓? 7.0E-5Pa 以下排?時(shí)間 15分以下（??壓?2.0×10-3 Pa）設備尺? 約6300mm (W) ×9000mm (D) ×4000mm (H)電源 3相,200v,50/60Hz, 約80KVA?流量 220升/分以上空?壓? 0.5 - 0.7 MPa重量 約12000kg用途：此真空鍍膜機是鍍制防污膜（AS膜）及防反射膜+防污膜（AS+AS膜）的?型光學(xué)鍍膜機，應?于智慧?機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，清理空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，鍍在真空室中夾有行星機構或旋轉運動(dòng)的裝置，如一個(gè)行星的運動(dòng)模式，運動(dòng)模式的膜均勻性好，鍍層的臺階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個(gè)運動(dòng)的常用模式。排氣系統一般由機械泵，擴散泵，管道和閥門(mén)組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機械泵和擴散泵。因此，不僅在較短的時(shí)間內低壓力以保證快速的工作循環(huán)的排氣系統，還需要確保氣體的蒸發(fā)源和蒸鍍工件表面產(chǎn)生快速的去除。蒸發(fā)系統包括電氣設備和加熱蒸發(fā)源蒸發(fā)源。電氣設備包括測量真空薄膜的厚度和控制