晶體加工規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)：     波前畸變  小于λ/8 @ 633 nm  尺寸公差  (W±0.10mm)×(H ± 0.10mm)×(L ±0.10mm)  角度公差  △θ <0.20°  △Φ <0.20°  通光孔徑  >90%  平面度 λ/10@633nm 厚度<1為 λ/8@633nm  光潔度  10/5(參照MIL-0-13830B)  平行度  ≤5〞  垂直度  <5 ′  鍍 膜  AR:R<0.2% HR:R>99.8%