利用真空狀態(tài)下弧光放電原理的離子鍍膜技術(shù)，是率先發(fā)展起來(lái)的真空鍍膜方式，具有沉積速率高、結合牢固、設備運行穩定等優(yōu)點(diǎn)，我們在傳統多弧的基礎上，對靶結構、磁鐵、冷卻等進(jìn)行了嚴格的改進(jìn)和設計，提高了離化率、細化顆粒，膜層和基材結合更加牢固、膜層更加致密，硬度耐磨性顯著(zhù)提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之間，是普通裝飾鍍和工具鍍膜的優(yōu)選機型。 根據市場(chǎng)的需求公司研制出輔助陽(yáng)極、磁過(guò)濾、矩形平面靶、圓柱旋轉電弧靶等衍生產(chǎn)品，沉積的膜層達到納米量級，是制備高硬度、高結合力、高耐膜性a-tc、DLC膜層的良好選擇。 技術(shù)參數： 真空箱體：主要規格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根據客戶(hù)具體要求設計非標產(chǎn)品。 夾具方式：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調，掛具有6軸、8軸、10軸、12軸等各種規格，適合不同大小尺寸的裝飾、工具鍍膜。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進(jìn)氣穩定，反應速度快，可以配加自動(dòng)壓強控制。 靶：采用整體制造技術(shù)，結構合理而簡(jiǎn)單，維護更換靶材方便，具有自動(dòng)/手動(dòng)引弧功能。 電源：配置直流脈沖電源（電壓、占空比可調節），逆變電弧電源。 抽真空參數：從大氣抽至5*10‾³Pa≤15min 極限真空度8*10‾4Pa 控制系統 可以選用手動(dòng)控制；計算機控制，觸摸屏面板控制。 抽氣系統：采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶(hù)的需要配備分子泵或者進(jìn)口泵等。