詳細介紹 應用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。 該系列設備主要是（集）直流磁控濺射, 中頻濺射和多弧離子三種技術(shù)融合一體，可適應廣泛鍍膜靶材，無論金屬還是介質(zhì)、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜, 使膜層附著力、致密度、從復度及顏色一致性好等特點。可鍍制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金剛石膜（DLC）、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和復合膜層。可編程序控制器（PLC）+觸摸屏（HMI）組合電氣控制系統(tǒng)，全自動控制。 　 　 磁控、中頻、多弧離子鍍膜設備技術(shù)參數(shù)說明 設備型號 ZCK-1000 ZCK-1150 ZCK-1200 ZCK-1400 ZCK-1600 真空室尺寸 1000×1200 1150×1200 1200×1300 1400×1300 1600×1300 制膜種類 金色氮化鈦、黑色碳化鈦、七彩氧化鈦、耐磨膜、超硬膜、金剛石膜、金屬裝飾膜等 電源類型 直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源 多弧靶 多弧靶5個或18個，1個或2個柱弧靶 孿生靶 中頻孿生柱靶或平面靶（1-4對） 真空室結(jié)構(gòu) 立式前開門結(jié)構(gòu)（雙層水套式或水槽式冷卻）、后置抽氣系統(tǒng) 真空系統(tǒng) 旋片泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：分子泵、深冷泵、深冷系統(tǒng)） 加熱系統(tǒng) 常溫至350度可調(diào)可控（PID控溫），不繡鋼加熱管加熱 充氣系統(tǒng) 質(zhì)量流量控制儀（1-4路） 極限真空 6×10－4pa（空載、凈室） 抽氣時間 空載大氣抽至5×10－3pa小于13分鐘 保壓率 1h≤0.6pa 工件旋轉(zhuǎn)方式 上旋轉(zhuǎn)或下旋轉(zhuǎn)＋公自轉(zhuǎn)變頻無級可控可調(diào)，0-20轉(zhuǎn)/分 控制方式 手動＋半自動/觸摸屏＋PLC 備注 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做